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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

品牌情况 该半导体芯片营造该该项目规划坐落在西北东北部,总资金多于200万亿元,具体生育12英尺晶圆和优秀芯片封装服务。该该项目规划日排卸废储水量约5000吨,其中包含多种类工艺技术废气,工作困难大。该项目追求废气工作后可达到《電子制造业水环境有机废气排卸规定》(GB 39731-2020)比较排卸标准值,要素工业废水处理率不底于60%。 化工废水成份及原因 含氟生产废水:主要的原于晶圆蚀刻、清洁工作道工序,氟亚铁离子浓度值可高达200-500mg/L,pH值波动性大 可挥发会生活污水:光刻、显影液、去胶等步骤所产生,COD盐浓度300-800mg/L,包含异丙醇、二甲苯等可挥发会稀释剂 含铜生活污水:塑料电镀、催化机械设备制造打蜡 (CMP)制作工序所产生,铜正离子浓度值50-150mg/L 酸碱度工业废水:环保设备清理、排放物洗滌等关键点导致,pH值在2-12两者起伏较大 碾磨废水处理:CMP程序存在,所含納米级二阳极氧化硅颗粒状 整理新工艺步奏 选用"进行分类采集而来+分质治理+宽度净化后"的整合技艺: 含氟污废水 工作线 : 有级普通机械积淀:先加药氯化钙缓解pH至6-7,多加入PAC和PAM水解酸化池积淀 特异性氧化物铝吸咐:确保氟阴阳离子氨水浓度下降5mg/L以內 活性污泥经板框压滤后请求行业处里 充分生产废水加工处理线 : 微电解法设备预加工处理:铁碳微电解法设备光降解大团伙生产物 UASB好氧池发生物反应器:HRT=24h,COD我们要除率>60% MBR膜微生物影响器:选用PVDF中空中纤维板膜,通量15LMH 含铜废液除理线 : 电学析出物中:添加NaOH上下调整pH至9-10,成型Cu(OH)2析出物中 正铁离子交易:多级硅橡胶交易保持铜正铁离子<0.3mg/L 电解设备抛光环保再生资源收废:环节电镀废水经电解设备抛光环保再生资源收废材料铜 总体处理模式 : 自动调节池:均衡性水质量水流量,设芬顿反应混和 混疑滤渣:加药分手后复合斜管沉淀池剂的还原电解质溶液有机物 臭氧杀菌催化反应脱色:生物分解难生物分解有机质物 反渗装置:脱盐率>98%,产水回收于生产加工线 污水除理整体 : 生活污水浓缩咖啡池:气体浓度值从1%的提升至3% 离心式脱水怎么办:加盟PAM调里,泥饼含水分率<75% 温度过低干化:局部污水干化至水分含量率30%以上 最后效率 项目流程建设完工电脑运行后,某项评价指标相对稳定不合格:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜阴离子<0.3mg/L、pH 6-9。产业废水处理水水质检测到GB/T 19923-2005产业拿水条件,产业废水处理率65%,第一年降投资成本优质水剂量约140万吨。飞灰生成量减轻40%,危害性废料应对投资成本降35%。机系统自动的化程度上高,百度在线监测方案数据报告与环保健康个部门实时的下载客户端。

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