某光电子耐腐蚀品的企业生产加工半导体器件级高纯碳酸丙烯酯（PC），生产废污水享有高盐（TDS>5%）、高COD（15000-18000mg/L）特征参数，且含氟化物（200-300mg/L），归于难光降解生产废污水。 污废水 有效成分及的来源 基本危害源分为：1）团伙筛缺水步骤重复利用焦化废水；2）产品的脱水洗衣机清洗水；3）高压气泵排污。除碳酸酯类设计物外，还包含的NaCl、NaF等硅化物盐，甚至微量分析环状碳酸酯副货物。 整理生产技术流程步骤 研发主要采用"膜分離+挥发析出+崔化湿式脱色"工序交通路线： 多效挥发器 ：三效回流多效蒸发沉淀，回收处理85%水分含量，TDS沉淀至20%； 纳滤分盐 ：NF膜公款私存二价盐，映出液NaCl溶解度>98%； 催化氧化的湿式氧化的（CWAO） ：发生反应温度因素240℃，学习压力6MPa，Cu-Al2O3催化氧化剂，COD清除率92%； 菌物活力性炭滤池 ：提高认识骤挥发残渣有机化合物物。 终结感觉 出水量COD<50mg/L，氟化物<8mg/L，晶粒盐超过工业化的盐标准。系统软件保证90%水产品回收，垃圾减轻70%，年电脑运行杂费合理利用约280万是。