某半导体器件营造单位因晶圆难以清理工艺技术生成含氨废水工作，储水量200吨/天。废水工作中除氧化还原电位外还具有氟化物和氢化物发生器天价属，工作难易大。本地排卸准则规范氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生产废水含量及收入 晶圆清洁污水（主要的从何而来）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀流程焦化废水：含进样器铜、镍等天价属，pH值价格波动大 CMP研磨抛光污水：含硅顆粒及化学需氧量 鑫霖环保技术标准流程 分为"物理化学沉淀出的+膜脱离+折点氯化"组装艺： 预加工处理 ：加药CaCl2除氟，保持pH在7.5-8. 反渗透膜设计 ：除掉0.01μm这颗粒状物 反覆盖浓缩造成 ：将氧化还原电位果汁至1000mg/L之上 折点氯化 ：精确度掌握氯加药量，将氟化物转变成为氦气 阳离子交易 ：保障措施天价属考核标准 决定目的 挥发酚可靠＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属硫含量压低检查限 水使用率达75% 污水呈现量少40%